光掩膜版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。

光掩膜版一般也稱(chēng)光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上，是光刻工藝中最重要的耗材之一。掩膜版作為模具，通過(guò)光刻技術(shù)將掩膜版上的電路圖案復(fù)制到芯片或液晶面板玻璃上，從而批量化生產(chǎn)集成電路或液晶面板等產(chǎn)品。

光掩模版可按照組成與產(chǎn)品進(jìn)行分類(lèi)。光掩膜版主要由基板與遮光膜兩部分組成，其中基板可分為透明樹(shù)脂基板和透明玻璃基板，玻璃基板更為常用，按照玻璃材質(zhì)可細(xì)分為合成石英、硼硅玻璃和蘇打玻璃三類(lèi)，最主要用于亞微米光刻的投影光掩膜版襯底材料是合成石英。鉻版主要由鉻質(zhì)遮光膜與石英基板組成，由于其精度高、耐用性好，廣泛應(yīng)用于在微電子制造領(lǐng)域。

工藝

1、材料合成

?金屬雜質(zhì)降低

?透過(guò)率提升

?羥基含量控制

2、材料成型

?形狀和尺寸調(diào)整

?光學(xué)均勻性改善

?應(yīng)力消除

3、材料光學(xué)加工

?面型加工

?尺寸加工

?拋光加工

4、產(chǎn)品測(cè)試

?透過(guò)率

?光學(xué)均勻勻性

?應(yīng)力雙折射

應(yīng)用

包括平板顯示、集成電路、觸摸屏、電路板等。

光掩模石英基板要求

?高光學(xué)均勻性

?低應(yīng)力雙折射

?高透過(guò)率和透過(guò)率均勻性

?抗激光損傷和低缺陷。