VAD工藝自主合成了高等級熔融石英材料,VAD為兩步法工藝,通過對松散體進行脫羥和純化處理,可以實現(xiàn)低羥基和高純石英玻璃材料制造,具備更低的羥基含量和金屬雜質(zhì)含量,在吸收系數(shù)和抗激光損傷方面有較明顯優(yōu)勢。
這是開發(fā)的optica光纖制造技術的常規(guī)VAD(氣相軸向沉積)方法進行重大改進的結(jié)果。熔融石英材料純度極高,OH含量遠低于傳統(tǒng)的直接法,因此是一種可用于半導體和液晶顯示行業(yè)的合成熔融石英。熔融石英材料在光學特性方面是最先進的技術,因為它除了耐熱性、機械強度和耐化學性外,還具有高紫外線透過率、無微夾雜物和耐日曬性。
序號 | 指標 | 單位 | CVD | VAD |
1 | 金屬雜質(zhì)含量 | ppb | <500 | <100 |
2 | 羥基含量 | ppm | ~1000 | <1 |
3 | 1064nm吸收系數(shù) | 10-6/cm | <20 | <1(可實現(xiàn)) |
4 | 應力雙折射 | nm/cm | <5 | <5 |
5 | 光學非均勻性 | / | <5×10-6 | <5×10-6 |
6 | 坯料尺寸 | mm | φ500 | φ150 |
主要應用:
本產(chǎn)品可用于半導體、光學和所有物理或化學相關研究的各種工業(yè)應用,具有以下應用特點:
1.各種器件的晶片,如TFT(多晶硅薄膜晶體管LCD)、SOI(絕緣體上硅)等。
2.超大規(guī)模集成電路和液晶顯示器的光掩模基板。
3.ULSI制造工藝用反應堆爐管、夾具和工具。
4.放電燈管。
5.光學元件、透鏡、鏡子和窗戶,用于紫外線和真空紫外線。
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主要優(yōu)勢:
1)填補國內(nèi)光學材料技術的一項空白
2)純度極高,OH含量遠低于傳統(tǒng)的直接法
3)對標國際頂級品牌同類產(chǎn)品質(zhì)量,但價格有極大的優(yōu)勢
4)優(yōu)異的耐熱性、機械強度和耐化學性,高紫外線透過率、無微夾雜物和耐日曬性